APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF (Brevets)

Titre

APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF

N° et date de publication de la demande

EP3301511 - 04/04/2018

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

EP17185716 - 26/02/2004

N° et date de priorité

JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003

Classification CIB

G03F 7/20

Classification CPC

G03F 7/7095 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/70733

Famille de brevets

JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; CN104678715A ; EP3301511A1 ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A

Abrégé

Pour exposer un substrat (P), un appareil d'exposition (EX) projette une image ayant un motif prédéterminé sur le substrat à travers un liquide (1). L'appareil d'exposition comprend un système optique de projection qui assure la projection et un mécanisme (10) d'alimentation en liquide qui distribue un liquide sur le substrat afin de former une région (AR2) immergée dans le liquide sur une partie du substrat. Le mécanisme d'alimentation en liquide distribue le liquide (1) sur le substrat (P). La distribution est simultanément effectuée à des endroits éloignés dans des directions différentes par rapport à une région de projection (AR1). L'appareil d'exposition a la capacité de former, de manière stable, la région immergée dans le liquide et de récupérer, de manière très efficace, le liquide, de sorte que le liquide ne peut déborder vers le pourtour de la région et que l'exposition précise est effectuée.