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Brevet : EP2466624 - Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du disposi...
Titre
Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du dispositif
N° et date de publication de la demande
EP2466624 - 20/06/2012
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
EP12159208.3 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/70341 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/70733 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; CN102495540A ; EP2466624A2 ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
L‘invention concerne un appareil d'exposition (EX) qui expose un substrat (P) par projection une image ayant un motif prédéterminé sur le substrat à travers un liquide (1). L'appareil d'exposition comprend un système optique de projection qui assure la projection et un mécanisme (10) d'alimentation en liquide qui distribue le liquide sur le substrat afin de former une région (AR2) immergée dans le liquide sur une partie du substrat. Le mécanisme d'alimentation en liquide distribue le liquide (1) sur le substrat (P)simultanément à partir de plusieurs positions qui font partie de plusieurs directions différentes de la région de projection (AR1). L'appareil d'exposition a la capacité de former, de manière stable, la région immergée dans le liquide et de récupérer, de manière très efficace, le liquide . Il est possible d‘effectuer le procédé d‘exposition de manière précise, ce qui permet d‘eviter, par exemple, que le liquide ne déborde vers le pourtour de la région .
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME CHIYODA-KU TOKYO 100-8331 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
HOFFMANN EITLE - PATENT- UND RECHTSANWALTE PARTMBB ARABELLASTRASSE 30 81925 MUNCHEN - DE
STATUT EN FRANCE : Dossier déchu définitivement
Délivrance
22/04/2015
Date de constatation de déchéance
-
28/10/2016 (BOPI 2016-47)
