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Brevet : EP2945016 - APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSI...
Titre
APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSITIF
N° et date de publication de la demande
EP2945016 - 18/11/2015
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
EP15158782.1 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/7095 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/70733
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
Un appareil d'exposition EX expose un substrat P par projection d'une image d'un motif prédéterminé à travers un liquide sur le substrat 1. L‘appareil d'exposition comprenant un système optique de projection qui effectue la projection, et un mécanisme d'alimentation en liquide 10 qui fournit le liquide sur le substrat pour former une zone d'immersion liquide AR2 sur une partie du substrat. Le mécanisme d'alimentation en liquide fournit le liquide 1sur le substrat P simultanément depuis une pluralité de positions qui sont à l'écart, dans une pluralité de directions différentes, à partir de la zone de projection AR1. L‘appareil d'exposition est apte à former la zone d'immersion liquide de manière stable et en récupérant le liquide de manière satisfaisante. Il est possible d'effectuer le processus d'exposition avec précision tout en évitant, par exemple, l'écoulement du liquide à l'environnement.
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI TOKYO 100-8331 - JP
NISHII, YASUFUMI TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
HOFFMANN EITLE - PATENT- UND RECHTSANWALTE PARTMBB ARABELLASTRASSE 30 81925 MUNCHEN - DE
STATUT EN FRANCE : Déchu
Délivrance
06/09/2017
Date de constatation de déchéance
-
29/10/2018 (BOPI 2018-48)
Date de paiement de la prochaine annuité
28/02/2018
