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Brevet : EP2466625 - Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du disposi...
Titre
Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du dispositif
N° et date de publication de la demande
EP2466625 - 20/06/2012
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
EP12159209.1 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/70341 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/70733 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
L‘invention concerne un appareil d'exposition EX, qui expose un substrat P par projection d'une image d'un motif prédéterminé à travers un liquide sur le substrat. L‘appareil d'exposition comprend un système optique de projection qui effectue la projection, et un mécanisme10 d'alimentation en liquide qui fournit le liquide sur le substrat pour former une zone AR2 d‘immersion dans un liquide sur une partie du substrat. Le mécanisme d'alimentation en liquide fournit le liquide 1 sur le substrat P simultanément à partir de plusieurs positions qui sont en dehors, dans plusieurs directions différentes, à partir de la zone AR1 de projection. L‘appareil d'exposition est capable de former la zone d'immersion dans un liquide de manière stable et de récupérer le liquide de manière satisfaisante. Il est possible d'effectuer le processus d'exposition de manière précise tout en évitant, par exemple, l'écoulement du liquide dans l'environnement.
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME CHIYODA-KU TOKYO 100-8331 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
HOFFMANN EITLE - PATENT- UND RECHTSANWALTE PARTMBB ARABELLASTRASSE 30 81925 MUNCHEN - DE
STATUT EN FRANCE : Dossier déchu définitivement
Délivrance
22/04/2015
Date de constatation de déchéance
-
28/10/2016 (BOPI 2016-47)
