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Brevet : EP2466621 - Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du disposi...
Titre
Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du dispositif
N° et date de publication de la demande
EP2466621 - 20/06/2012
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
EP12159205.9 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/70341 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/70733 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
Pour exposer un substrat (P), un appareil d'exposition (EX) projette une image ayant un motif prédéterminé sur le substrat à travers un liquide (1). L'appareil d'exposition comprend un système optique de projection qui assure la projection et un mécanisme (10) d'alimentation en liquide qui distribue un liquide sur le substrat afin de former une région (AR2) immergée dans le liquide sur une partie du substrat. Le mécanisme d'alimentation en liquide distribue le liquide (1) sur le substrat (P). La distribution est simultanément effectuée à des endroits éloignés dans des directions différentes par rapport à une région de projection (AR1). L'appareil d'exposition a la capacité de former, de manière stable, la région immergée dans le liquide et de récupérer, de manière très efficace, le liquide, de sorte que le liquide ne peut déborder vers le pourtour de la région et que l'exposition précise est effectuée.
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME CHIYODA-KU TOKYO 100-8331 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI TOKYO 100-8331 - JP
NISHII, YASUFUMI TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
NOVAGRAAF BREVETS - BATIMENT O2 2 RUE SARAH BERNHARDT CS90017 - 92665 ASNIERES SUR SEINE CEDEX - FR - N° Siren : 389361395
STATUT EN FRANCE : Déchu
Délivrance
01/04/2015
Date de constatation de déchéance
-
06/10/2020 (BOPI 2020-45)
Dernière annuité payée
11/01/2019
Quantième- N° de l'annuité payée
16
Date de paiement de la prochaine annuité
02/03/2020
