Précédent
Suivant
Brevet : EP2466622 - Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du disposi...
Titre
Appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de production du dispositif
N° et date de publication de la demande
EP2466622 - 20/06/2012
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
EP12159206.7 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/70341 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/70733 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
La présente invention concerne un appareil d‘exposition EX exposant un substrat P par une projection d‘une image d‘un motif prédéterminé via un liquide 1 dans le substrat. L‘appareil d‘exposition comprend un système optique de projection qui réalise la projection, et un mécanisme d‘alimentation de liquide 10 qui alimente le liquide dans le substrat pour former une zone d‘immersion de liquide AR2 sur une partie du substrat. Le mécanisme d‘alimentation de liquide alimente le liquide 1 dans le substrat P de manière simultanée à partir d‘une pluralité de positions qui sont séparées, dans une pluralité de différentes directions, à partir la zone de projection AR1. L‘appareil d‘exposition est apte à former la zone d‘immersion de liquide de manière stable et à recouvrir le liquide de manière satisfaisante. Il est possible de réaliser le processus d‘exposition de manière fiable tant qu‘il est évité, par exemple, le surplus de liquide dans les entourages.
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME CHIYODA-KU TOKYO 100-8331 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI TOKYO 100-8331 - JP
OWA, SOICHI TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
NOVAGRAAF BREVETS - BATIMENT O2 2 RUE SARAH BERNHARDT CS90017 - 92665 ASNIERES SUR SEINE CEDEX - FR - N° Siren : 389361395
STATUT EN FRANCE : Déchu
Délivrance
27/05/2015
Date de constatation de déchéance
-
06/10/2020 (BOPI 2020-45)
Dernière annuité payée
11/01/2019
Quantième- N° de l'annuité payée
16
Date de paiement de la prochaine annuité
02/03/2020
