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Brevet : EP1598855 - APPAREIL ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE PRODUCTION DE L'APPAREIL
Titre
APPAREIL ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE PRODUCTION DE L'APPAREIL
N° et date de publication de la demande
EP1598855 - 23/11/2005
Type de la demande
A1
N° et date de dépôt
EP04714910.9 - 26/02/2004
N° et date de priorité
JP2003049365 - 26/02/2003 ; JP2003110748 - 15/04/2003 ; JP2003320100 - 11/09/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/70341 ; G03F 7/7095 ; G03F 7/708 ; G03F 7/2041 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095 ; H01L 21/0273 ; G03F 7/70341 ; G03F 7/70733 ; G03F 7/708 ; G03F 7/7095
Famille de brevets
JP2015121825A ; HK1170070A1 ; SG10201809095SA ; JP2010028127A ; KR20120088846A ; JP2012129565A ; HK1214372A1 ; KR20150052334A ; JP2017068287A ; JP2014112716A ; HK1247997A1 ; EP2466624A2 ; CN102495540A ; KR20170143017A ; HK1170067A1 ; US2007263183A1 ; TW201719296A ; TW201220002A ; US2006274293A1 ; KR20110061633A ; KR20130019022A ; TW201229691A ; WO2004086468A1 ; JP2009302596A ; EP2945184A2 ; US2007258067A1 ; SG183572A1 ; EP2466625A2 ; TW200500813A ; US2014240684A1 ; KR20120063524A ; JP2018106206A ; US2016246188A1 ; EP1598855A1 ; HK1170066A1 ; EP2466621A2 ; SG10201401559QA ; US2019121244A1 ; KR20050102676A ; HK1208088A1 ; US2006146306A1 ; US2007258066A1 ; JP2011023765A ; TW201908879A ; US2017371253A1 ; EP2945016A2 ; KR20180126102A ; US2005280791A1 ; KR20140110089A ; JP2014112741A ; US2007263185A1 ; US2014253889A1 ; EP2466622A2 ; EP3301511A1 ; CN104678715A ; JP2016075963A ; US2007258065A1 ; SG2012087615A ; EP2466623A2 ; KR20160089545A ; JP2009147386A ; US2007263186A1 ; HK1168912A1 ; US2011032498A1 ; KR20130119989A ; HK1214405A1 ; HK1170064A1 ; TW201516584A
Abrégé
An exposure apparatus EX exposes a substrate P by projecting an image of a predetermined pattern through a liquid 1 onto the substrate. The exposure apparatus includes a projection optical system which performs the projection, and a liquid supply mechanism 10 which supplies the liquid onto the substrate to form a liquid immersion area AR2 on a part of the substrate. The liquid supply mechanism supplies the liquid 1 onto the substrate P simultaneously from a plurality of positions which are apart, in a plurality of different directions, from the projection area AR1. The exposure apparatus is capable of forming the liquid immersion area stably and recovering the liquid satisfactorily. It is possible to perform the exposure process accurately while avoiding, for example, the outflow of the liquid to the surroundings.
INTERVENANTS
Déposant
NIKON CORPORATION - 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME CHIYODA-KU TOKYO 100-8331 - JP
Titulaire
NIKON CORPORATION - 15-3, KONAN 2-CHOME MINATO-KU TOKYO 108-6290 - JP
Inventeur
NAGASAKA, HIROYUKI CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 - JP
OWA, SOICHI CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 - JP
NISHII, YASUFUMI CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 - JP
Mandataire
HOFFMANN EITLE - PATENT- UND RECHTSANWALTE PARTMBB ARABELLASTRASSE 30 81925 MUNCHEN - DE
STATUT EN FRANCE : Déchu
Délivrance
22/04/2015
Registre national des brevets (RNB)
19/09/2023 - N°0259455 - OO : Dérogation à la compétence de la Juridiction Unifiée du Brevet (BOPI 2023-43)
Date de constatation de déchéance
-
28/10/2016 (BOPI 2016-47)
Date de paiement de la prochaine annuité
29/02/2016
