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Brevet : WO2012143555 - ARCHITECTURE DE RÉSEAU POUR UN GROUPE DE MACHINES DE LITHOGRAPHIE
Titre
ARCHITECTURE DE RÉSEAU POUR UN GROUPE DE MACHINES DE LITHOGRAPHIE
N° et date de publication de la demande
WO2012143555 - 26/10/2012
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
PCT/EP2012057385 - 23/04/2012
N° et date de priorité
US201161478117 - 22/04/2011 ; US201161533673 - 12/09/2011
Classification CIB
Classification CPC
B82Y 10/00 ; B82Y 40/00 ; G03F 7/70508 ; G03F 7/70525 ; G03F 7/70991 ; H01J 37/3177 ; G03F 7/70508 ; G03F 7/70525 ; G03F 7/70991 ; H01J 37/3177 ; B82Y 10/00 ; B82Y 40/00 ; G03F 7/70525 ; G03F 7/70483 ; G03F 7/70508 ; G03F 7/70991 ; G06F 9/48 ; H01J 37/3177 ; G05B 19/41865 ; B82Y 10/00 ; B82Y 40/00 ; G06F 9/4881 ; G05B 19/41865 ; G03F 7/70508 ; G03F 7/70525 ; G03F 7/70991 ; H01J 37/3177 ; B82Y 10/00 ; B82Y 40/00 ; G06F 9/48 ; G03F 7/70483
Famille de brevets
WO2012143548A2 ; JP2014512683A ; KR20140041495A ; RU2013151876A ; CN105974743A ; US2015309424A1 ; WO2012143555A2 ; TW201303521A ; US2013111485A1 ; EP2699966A2 ; EP2700081A2 ; KR20170120194A ; US2013037730A1 ; CN103649836A ; TW201250401A ; JP2016219812A ; JP2014515885A
Abrégé
Un système de traitement de substrats en groupe comprend une pluralité d'éléments de lithographie, chaque élément de lithographie étant conçu pour l'exposition indépendante de substrats selon des données de motif. Chaque élément de lithographie comporte une pluralité de sous-systèmes de lithographie, un réseau de commande prévu pour la transmission d'informations de commande entre les sous-systèmes de lithographie et au moins une unité de commande d'éléments, cette unité de commande d'éléments étant destinée à envoyer des ordres aux sous-systèmes de lithographie et les sous-systèmes de lithographie servant à envoyer des réponses à ladite unité de commande d'éléments, et un réseau de données conçu pour la transmission d'informations d'enregistrement de données en provenance des sous-systèmes de lithographie et à destination d'au moins un concentrateur de réseau de données, les sous-systèmes de lithographie permettant d'envoyer des informations d'enregistrement de données au concentrateur de réseau de données et ledit concentrateur de données étant destiné à recevoir et à stocker ces informations d'enregistrement de données. Ce système comprend également un frontal de groupe pour l'interface avec un opérateur ou un système hôte, ce frontal de groupe servant à envoyer des informations de commande à au moins une unité de commande de machine afin de commander le fonctionnement des sous-systèmes de lithographie pour l'exposition d'une ou plusieurs tranches, et servant aussi à recevoir au moins une partie des informations d'enregistrement de données reçues par le concentrateur de réseau de données.
INTERVENANTS
Déposant
MAPPER LITHOGRAPHY IP BV (MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.) - NL
SLOT ERWIN (SLOT, ERWIN) - NL
VAN KERVINCK MARCEL NICOLAAS JACOBUS (VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS) - NL
KUIPER VINCENT SYLVESTER (KUIPER, VINCENT SYLVESTER) - NL
Inventeur
SLOT ERWIN (SLOT, ERWIN) - NL
VAN KERVINCK MARCEL NICOLAAS JACOBUS (VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS) - NL
KUIPER VINCENT SYLVESTER (KUIPER, VINCENT SYLVESTER) - NL
