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Brevet : WO2020126242 - PROCÉDÉ DE CONTRÔLE D'UN PROCESSUS DE FABRICATION ET APPAREILS ASSOCIÉS
Titre
PROCÉDÉ DE CONTRÔLE D'UN PROCESSUS DE FABRICATION ET APPAREILS ASSOCIÉS
N° et date de publication de la demande
WO2020126242 - 25/06/2020
Type de la demande
A1
N° et date de dépôt
PCT/EP2019081282 - 14/11/2019
N° et date de priorité
EP18214013 - 19/12/2018 ; US201962802866 - 08/02/2019
Classification CPC
G03F 7/70491 ; G03F 7/70633 ; G03F 9/7046 ; G03F 7/70491 ; G03F 7/70633 ; G03F 9/7046 ; G03F 7/706837 ; G03F 7/706839 ; G03F 7/70633 ; G03F 9/7046 ; G03F 7/70491
Famille de brevets
EP3671347A1 ; CN113196174A ; TW202038017A ; WO2020126242A1 ; KR20210089243A ; EP3899662A1 ; US2022026810A1
Abrégé
L'invention concerne un procédé de détermination d'une correction concernant une mesure de performance d'un processus de fabrication de semi-conducteur, le procédé consistant à : obtenir un premier ensemble de données de métrologie de prétraitement ; traiter le premier ensemble de données de métrologie de prétraitement en décomposant les données de métrologie de prétraitement en un ou plusieurs composants qui : a) sont en corrélation avec la métrique de performance ; ou b) sont au moins partiellement corrigibles par un processus de commande qui fait partie du processus de fabrication de semi-conducteur ; et appliquer un modèle entraîné au premier ensemble traité de données de métrologie de prétraitement pour déterminer la correction pour ledit processus de fabrication de semi-conducteur.
INTERVENANTS
Déposant
ASML NETHERLANDS BV (ASML NETHERLANDS B.V.) - NL
Inventeur
BRANTJES NICOLAAS PETRUS MARCUS (BRANTJES, Nicolaas Petrus Marcus) - NL
COX MATTHIJS (COX, Matthijs) - NL
MENCHTCHIKOV BORIS (MENCHTCHIKOV, Boris) - US
TABERY CYRUS (TABERY, Cyrus) - US
ZHANG YOUPING (ZHANG, Youping) - US
ZOU YI (ZOU, Yi) - US
LIN CHENXI (LIN, Chenxi) - US
CHENG YANA (CHENG, Yana) - US
HASTINGS SIMON (HASTINGS, Simon) - US
GENIN MAXIME (GENIN, Maxime) - US
