Brevet : WO02082474 - RESISTANCE A COUCHE MINCE COMPRENANT UNE BARRIERE D'HUMIDITE D'OXYDE DE TANTAL...

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Titre

RESISTANCE A COUCHE MINCE COMPRENANT UNE BARRIERE D'HUMIDITE D'OXYDE DE TANTALE

N° et date de publication de la demande

WO02082474 - 17/10/2002

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

PCT/US0112034 - 12/04/2001

N° et date de priorité

US82916901 - 09/04/2001

Abrégé

L'invention concerne un procédé de fabrication d'une résistance à couche mince comprenant une barrière d'humidité. Ce procédé consiste à déposer une couche de film métallique sur un substrat et à déposer une couche de film d'oxyde de tantale par dessus la couche de film métallique. L'invention concerne également une résistance à couche mince comprenant un substrat, une couche de film métallique fixée sur ce substrat, ainsi qu'une couche d'oxyde de tantale disposée par dessus la couche de film métallique, cette couche d'oxyde de tantale constituant une barrière d'humidité, cette couche n'étant pas recouverte par une oxydation.

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INTERVENANTS

Déposant

VISHAY DALE ELECTRONICS INC (VISHAY DALE ELECTRONICS, INC.) - US

VINCENT STEPHEN C (VINCENT, STEPHEN, C.) - US

Inventeur

VINCENT STEPHEN C (VINCENT, STEPHEN, C.) - US

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