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Brevet : WO2009027905 - SYSTÈME DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
Titre
SYSTÈME DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
N° et date de publication de la demande
WO2009027905 - 05/03/2009
Type de la demande
A2
N° et date de dépôt
PCT/IB2008053354 - 21/08/2008
N° et date de priorité
EP07115308 - 30/08/2007
Classification CIB
Classification CPC
Famille de brevets
ATE530679T1 ; CN101796213A ; JP2010538157A ; US2011233049A1 ; WO2009027905A2 ; EP2188411A2
Abrégé
L'invention porte sur un dispositif (10) pour une pulvérisation cathodique d'au moins un matériau sélectionné sur un substrat (5) et pour provoquer une réaction de celui-ci, comprenant une chambre à vide (11), dans laquelle un porte-substrat (12) est disposé, au moins un mécanisme de pulvérisation magnétron (15), qui est disposé dans une station de travail à proximité du porte-substrat (12) et qui a une cible du matériau sélectionné qui est approprié pour produire un premier plasma pour une pulvérisation cathodique d'au moins un matériau sur le substrat (5), ainsi qu'un mécanisme à plasma secondaire (16) pour produire un plasma secondaire, qui est disposé dans une station de travail à proximité du mécanisme de pulvérisation magnétron (15) et à proximité du porte-substrat (12), le mécanisme de pulvérisation magnétron (15) et le mécanisme à plasma secondaire (16) formant une zone de pulvérisation cathodique et une zone d'activation. Au moins deux électro-aimants (1, 3) et/ou aimants toriques magnétisés radialement ainsi qu'au moins un élément multipolaire magnétique (2), qui est formé à partir d'une pluralité d'aimants permanents, sont disposés pour produire des champs magnétiques comprenant le plasma secondaire. L'invention porte également sur un procédé pour le revêtement d'un substrat, dans lequel tout d'abord un matériau est déposé sur un substrat au moyen d'un procédé de pulvérisation cathodique et le matériau déposé réagit ensuite dans un plasma, qui contient les espèces réactives nécessaires pour former un composé, la densité de plasma et le degré d'ionisation du plasma étant augmentés à l'aide de champs magnétiques, qui sont produits par au moins deux électro-aimants (1, 3) et/ou aimants toriques magnétisés radialement ainsi qu'au moins un élément multipolaire magnétique (2), qui est formé à partir d'une pluralité d'aimants permanents.
INTERVENANTS
Déposant
KONINKL PHILIPS ELECTRONICS NV (KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.) - NL
PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY (PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH) - DE
HENNINGER GEORG (HENNINGER, GEORG) - DE
HUNSCHE BERNO (HUNSCHE, BERNO) - DE
SELL KONRAD (SELL, KONRAD) - DE
RUSKE MANFRED (RUSKE, MANFRED) - DE
DIEDERICH THOMAS (DIEDERICH, THOMAS) - DE
Inventeur
HENNINGER GEORG (HENNINGER, GEORG) - DE
HUNSCHE BERNO (HUNSCHE, BERNO) - DE
SELL KONRAD (SELL, KONRAD) - DE
RUSKE MANFRED (RUSKE, MANFRED) - DE
DIEDERICH THOMAS (DIEDERICH, THOMAS) - DE
