Brevet : EP3470172 - PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN MATÉRIAU DE SUPPORT POUR UNE OPÉRATION DE SURFAÇAGE...

Titre

PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN MATÉRIAU DE SUPPORT POUR UNE OPÉRATION DE SURFAÇAGE D'UNE ÉBAUCHE DE LENTILLE

N° et date de publication de la demande

EP3470172 - 17/04/2019

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

EP17306388.4 - 13/10/2017

N° et date de priorité

EP17306388 - 13/10/2017

Famille de brevets

WO2019072744A1 ; US2021187690A1 ; CN111201112A ; EP3470172A1

Abrégé

L‘invention concerne un procédé de préparation d'une ébauche de lentille (BLA) pour une opération supplémentaire de surfaçage de ladite ébauche de lentille, dans lequel l'ébauche de lentille est fixée à un support (SUPP) qui comprend une base de support (BASE) et un matériau de support (MAT) par lequel l‘objectif est fixé à la base du support. Le matériau de support est conçu pour définir une forme de matériau de support ayant une périphérie circulaire. L'opération de surfaçage est configurée pour transformer l'ébauche de lentille en une lentille surfacée ayant une forme de lentille surfacée à son extrémité. Le procédé est mis en oeuvre à l'aide d'un module de traitement et comprend: - déterminer la forme de la lentille en surface sur la base des données d'entrée, - sur la base de la forme de la lentille surfacée, déterminer un diamètre maximal de la forme dudit matériau de support en fonction d'une épaisseur maximale prédéterminée définissant l'épaisseur maximale du matériau de support qui peut être découpé lors du surfaçage de l'ébauche de lentille - choisir un diamètre (D) pour la forme du matériau de support inférieur ou égal audit diamètre maximal en vue de la fixation ultérieure de l'ébauche de lentille sur le support en formant le matériau de support de sorte que la forme du matériau de support présente un diamètre correspondant au diamètre choisi.