Brevet : EP3200253 - PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP ORGANIQUE VERTICAL ET T...

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Titre

PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP ORGANIQUE VERTICAL ET TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP ORGANIQUE VERTICAL

N° et date de publication de la demande

EP3200253 - 02/08/2017

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

EP16153391.4 - 29/01/2016

N° et date de priorité

EP16153391 - 29/01/2016

Classification CIB

H10K 99/00

Abrégé

L‘invention concerne un procédé de fabrication d‘un transistor à effet de champ organique vertical, dans lequel un transistor à effet de champ organique vertical avec un agencement de couches est réalisé sur un substrat, qui comprend des électrodes de transistor, à savoir une première électrode (23 ; 24), une seconde électrode (23 ; 24) et une troisième électrode (32), des couches électriquement isolantes (25 ; 34), et une couche semi-conductrice organique (28). En outre, un transistor à effet de champ organique vertical est également réalisé, qui comporte un agencement de couches avec des électrodes de transistor sur un substrat (21). (Figure 4)

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INTERVENANTS

Déposant

NOVALED GMBH - TATZBERG 49 01307 DRESDEN - DE

Titulaire

Novaled GmbH - Elisabeth-Boer-Strasse 9 01099 Dresden - DE

Inventeur

Kleemann, Hans 01099 Dresden - DE

Schwartz, Gregor 01307 Dresden - DE

Mandataire

Bittner, Thomas L. - Boehmert & Boehmert Anwaltspartnerschaft mbB Pettenkoferstrasse 22 80336 München - DE

STATUT EN FRANCE : Déchu

Délivrance

30/06/2021

Registre national des brevets (RNB)

10/10/2023 - N°0259973 - OO : Dérogation à la compétence de la Juridiction Unifiée du Brevet (BOPI 2023-46)

Date de constatation de déchéance

Date de paiement de la prochaine annuité

31/01/2022

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