Précédent
Suivant
Brevet : EP1376231 - Composition photosensible à base de polymère, procédé de fabrication d'images e...
Titre
Composition photosensible à base de polymère, procédé de fabrication d'images en relief et composants électroniques
N° et date de publication de la demande
EP1376231 - 02/01/2004
Type de la demande
A1
N° et date de dépôt
EP03011014.2 - 16/05/2003
N° et date de priorité
JP2002143166 - 17/05/2002 ; JP2003069898 - 14/03/2003
Classification CIB
Classification CPC
G03F 7/0233 ; G03F 7/0392 ; H05K 3/4676 ; Y10S 430/107 ; Y10T 428/24612 ; G03F 7/027 ; Y10T 428/24612 ; G03F 7/0233 ; G03F 7/0392 ; H05K 3/4676 ; Y10S 430/107
Famille de brevets
KR20040012450A ; US2011076458A1 ; US2007072122A1 ; TW200400984A ; US2004029045A1 ; EP1376231A1
Abrégé
L'invention concerne une composition de polymère photosensible, incluant (a) un polymère sélectionné parmi des précurseurs de polyamides et des polyamides ayant un groupe acide protégé par un groupe de protection et n'ayant aucun groupe amino(-NH2 ) à la terminaison; et (b) un composé qui génère un acide lorsqu'exposé à de la lumière, et capable de supprimer la protection du groupe de protection vis-à-vis d'un groupe acide. La composition peut être utilisée pour former des couches d'un dispositif semi-conducteur.
INTERVENANTS
Déposant
HITACHI CHEM DUPONT MICROSYS (HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD.) - JP
Titulaire
Hitachi Chemical DuPont MicroSyst
Inventeur
NUNOMURA MASATAKA (NUNOMURA, MASATAKA) - JP
OOE MASAYUKI (OOE, MASAYUKI) - JP
NAKANO HAJIME (NAKANO, HAJIME) - JP
TSUMARU YOSHIKO (TSUMARU, YOSHIKO) - JP
UENO TAKUMI (UENO, TAKUMI) - JP
Mandataire
Plasseraud IP - 66 rue de la Chaussée d'Antin - 75440 PARIS CEDEX 09 - FR
STATUT EN FRANCE : Déchu
Délivrance
01/04/2009
Date de constatation de déchéance
-
30/01/2015 (BOPI 2015-09)
Dernière annuité payée
21/05/2013
Quantième- N° de l'annuité payée
11
Date de paiement de la prochaine annuité
02/06/2014
