Brevet : EP1376231 - Composition photosensible à base de polymère, procédé de fabrication d'images e...

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Titre

Composition photosensible à base de polymère, procédé de fabrication d'images en relief et composants électroniques

N° et date de publication de la demande

EP1376231 - 02/01/2004

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

EP03011014.2 - 16/05/2003

N° et date de priorité

JP2002143166 - 17/05/2002 ; JP2003069898 - 14/03/2003

Abrégé

L'invention concerne une composition de polymère photosensible, incluant (a) un polymère sélectionné parmi des précurseurs de polyamides et des polyamides ayant un groupe acide protégé par un groupe de protection et n'ayant aucun groupe amino(-NH2 ) à la terminaison; et (b) un composé qui génère un acide lorsqu'exposé à de la lumière, et capable de supprimer la protection du groupe de protection vis-à-vis d'un groupe acide. La composition peut être utilisée pour former des couches d'un dispositif semi-conducteur.

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INTERVENANTS

Déposant

HITACHI CHEM DUPONT MICROSYS (HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD.) - JP

Titulaire

Hitachi Chemical DuPont MicroSyst

Inventeur

NUNOMURA MASATAKA (NUNOMURA, MASATAKA) - JP

OOE MASAYUKI (OOE, MASAYUKI) - JP

NAKANO HAJIME (NAKANO, HAJIME) - JP

TSUMARU YOSHIKO (TSUMARU, YOSHIKO) - JP

UENO TAKUMI (UENO, TAKUMI) - JP

Mandataire

Plasseraud IP - 66 rue de la Chaussée d'Antin - 75440 PARIS CEDEX 09 - FR

STATUT EN FRANCE : Déchu

Délivrance

01/04/2009

Date de constatation de déchéance

Dernière annuité payée

21/05/2013

Quantième- N° de l'annuité payée

11

Date de paiement de la prochaine annuité

02/06/2014

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