Brevet : EP0749044 - Composition pour photoréserve de type positif

Titre

Composition pour photoréserve de type positif

N° et date de publication de la demande

EP0749044 - 18/12/1996

Type de la demande

A2

N° et date de dépôt

EP96304002.7 - 03/06/1996

N° et date de priorité

JP14928595 - 15/06/1995

Famille de brevets

US5874195A ; EP0749044A2 ; US5770343A ; KR970002470A ; DE69610161T2 ; TW449674B ; JPH095987A

Abrégé

L'invention concerne une nouvelle composition de photoréserve de type positif de type sensibilisation chimique capable de donner une couche de réserve à motifs fins ayant un excellent profil transversal même pour des motifs isolés de façon discrète avec une grande sensibilité et une grande résolution, qui comprend, en plus (a) un composé générant un acide par irradition avec des rayons actimiques, (b) un ingrédient de résine capable d'être donné avec une solubilité augmentée dans une solution de développement alkaline en présence d'un acide et (c) un solvant organique qui est une cétone, un éther ou un ester comme ingrédient de base des compositions de photoréserve de type sensibilisation chimique, (d) une amide d'acide carboxylique dialkyl-N,N telle qu'une formamide diméthyl-N-N et acétamide diméthyl-N-N dans une proportion spécifiée par rapport au composant (b).