Précédent
Suivant
Brevet : EP1876495 - COMPOSITION COMPRENANT UN POLYMERE AYANT UNE STRUCTURE ETHYLENE-DICARBONYLE A U...
Titre
COMPOSITION COMPRENANT UN POLYMERE AYANT UNE STRUCTURE ETHYLENE-DICARBONYLE A UTILISER DANS LA FORMATION DE REVETEMENT ANTI-REFLECTIF POUR LITHOGRAPHIE
N° et date de publication de la demande
EP1876495 - 09/01/2008
Type de la demande
A1
N° et date de dépôt
EP06731784.2 - 13/04/2006
N° et date de priorité
JP2005120697 - 19/04/2005
Classification CIB
Classification CPC
C08G 59/4207 ; G03F 7/091 ; Y10S 438/952 ; C08G 59/4207 ; G03F 7/004 ; G03F 7/0045 ; G03F 7/0047 ; G03F 7/091 ; G03F 7/11 ; G03F 7/20 ; Y10S 438/952 ; G03F 7/091 ; C08G 59/4207 ; Y10S 438/952
Abrégé
There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer having an ethylenedicarbonyl structure and a solvent; an anti-reflective coating formed from the composition; and a method for forming photoresist pattern by use of the composition. The anti-reflective coating obtained from the composition can be used in lithography process for manufacturing a semiconductor device, has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, and has a higher etching rate than photoresists.
INTERVENANTS
Déposant
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. - 7-1, KANDA NISHIKI-CHO 3-CHOME CHIYODA-KU, TOKYO 101-0054 - JP
Titulaire
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. - 7-1, KANDA NISHIKI-CHO 3-CHOME CHIYODA-KU, TOKYO 101-0054 - JP
Inventeur
SAKAMOTO, RIKIMARU, NISSAN CHEM. IND.,LTD. TOYAMA-SHI, TOYAMA 9392753 - JP
Mandataire
NOVAGRAAF BREVETS - BATIMENT O2 2 RUE SARAH BERNHARDT CS90017 - 92665 ASNIERES SUR SEINE CEDEX - FR - N° Siren : 389361395
STATUT EN FRANCE
Délivrance
20/07/2011
Registre national des brevets (RNB)
10/11/2023 - N°0260638 - OO : Dérogation à la compétence de la Juridiction Unifiée du Brevet (BOPI 2023-51)
Dernière annuité payée
08/03/2024
Quantième- N° de l'annuité payée
19
Date de paiement de la prochaine annuité
30/04/2025
