MATRICE NOIRE COMPORTANT UN REVETEMENT CONDUCTEUR (Brevets)

Titre

MATRICE NOIRE COMPORTANT UN REVETEMENT CONDUCTEUR

N° et date de publication de la demande

WO9843747 - 08/10/1998

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

PCT/US9805845 - 25/03/1998

N° et date de priorité

US82925197 - 31/03/1997

Classification CIB

G02F 1/1335 ; G03F 7/00 ; G09F 9/30 ; H01J 1/74 ; H01J 9/227 ; G03F 7/40 ; H01J 29/08 ; H01J 29/32 ; H01J 31/12

Classification CPC

G02F 1/133512 ; G03F 7/0035 ; H01J 9/2278 ; H01J 29/085 ; H01J2329/00 ; H01J 29/085 ; G02F 1/133512 ; G03F 7/0035 ; H01J 9/2278 ; H01J2329/00 ; H01J 29/085 ; H01J2329/00 ; H01J 9/2278 ; G02F 1/133512 ; G03F 7/0035

Famille de brevets

WO9843747A1 ; JP2001519964A ; KR20000076078A ; EP0975437A1 ; US5912056A ; US6100636A ; HK1024199A1 ; DE69832056T2

Abrégé

L'invention concerne un procédé permettant de former une structure de matrice recouverte d'un revêtement conducteur, destinée à séparer des rangées et des colonnes de sous-pixels (106) sur la plaque frontale (104) d'un écran plat. Dans un mode de réalisation, une matière photorésistante (108) est déposée sur la surface intérieure (102) de la plaque frontale sur laquelle est formée une structure de matrice opaque (100) non conductrice, et à l'intérieur de zones de sous-pixels séparées par la structure de matrice. La matière photorésistante est séchée et exposée à la lumière (112) dans les zones de sous-pixels. Après élimination de la matière photorésistante (110) non exposée, une couche d'aluminium est déposée par vaporisation sur la surface intérieure de la plaque frontale, de façon à recouvrir d'aluminium conducteur la structure de matrice et la couche exposée de matière photorésistante se trouvant dans les zones de sous-pixels. Ensuite, un réactif d'attaque est appliqué sur la matière photorésistante exposée se trouvant dans les zones de sous-pixels, ce qui permet d'éliminer la matière photorésistante exposée et la couche d'Al sus-jacente des zones de sous-pixels, de sorte que la couche conductrice d'Al reste sur la structure de matrice seulement, sans recouvrir les zones de sous-pixels.