Brevet : WO2018143459 - PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DE POUDRE ET DISPOSITIF DE FORMATION D'UN FIL...

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Titre

PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DE POUDRE ET DISPOSITIF DE FORMATION D'UN FILM DE POUDRE

N° et date de publication de la demande

WO2018143459 - 09/08/2018

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

PCT/JP2018003840 - 05/02/2018

N° et date de priorité

JP2017019085 - 03/02/2017 ; JP2017019089 - 03/02/2017 ; JP2017019093 - 03/02/2017

Abrégé

L'invention concerne un procédé de formation d'un film de poudre comprenant : une étape de remplissage consistant à remplir de poudre (9) une ouverture (3) ménagée dans une plaque perforée (2) ; et une étape de formation de film consistant à former un film de poudre (11) en créant une différence de potentiel entre la plaque perforée (2) et un substrat (10) et en déplaçant, vers le substrat (10), la poudre (9) dont l'ouverture (3) est remplie.

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INTERVENANTS

Déposant

HITACHI SHIPBUILDING ENG CO (HITACHI ZOSEN CORPORATION) - JP

Inventeur

NISHIURA SOUSUKE (NISHIURA, Sousuke) - JP

SUGIYO TAKESHI (SUGIYO, Takeshi) - JP

FUKUI HIDEYUKI (FUKUI, Hideyuki) - JP

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