Brevet : WO2012126364 - PROCÉDÉ PERMETTANT DE MESURER UNE DISTORSION D'UN OBJECTIF DE PROJECTION

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Titre

PROCÉDÉ PERMETTANT DE MESURER UNE DISTORSION D'UN OBJECTIF DE PROJECTION

N° et date de publication de la demande

WO2012126364 - 27/09/2012

Type de la demande

A1

N° et date de dépôt

PCT/CN2012072693 - 21/03/2012

N° et date de priorité

CN201110068060 - 21/03/2011

Classification CIB

G03F 7/20 ; H01L 21/66

Abrégé

Un procédé permettant de mesurer une distorsion d'un objectif de projection consiste : au moyen d'une exposition progressive d'étage de réticule (S21), à obtenir un premier écart de position entre deux motifs exposés dans le même champ d'exposition ; au moyen d'une exposition progressive d'étage de pièce à usiner (S22), à obtenir un second écart de position entre deux images exposées dans le même champ d'exposition ; et à supprimer les erreurs de déplacement d'un étage de réticule et/ou d'un étage de pièce à usiner dans les premier et second écarts de position afin d'obtenir un premier et un second écart corrigé (S43, S44), à soustraire un écart corrigé de l'autre écart corrigé (S45), et à obtenir une distorsion d'un objectif de projection par l'intermédiaire d'une mise en place (S46).

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INTERVENANTS

Déposant

SHANGHAI MICROELECTRONICS EQUI (SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.) - CN

FANG LI (FANG, LI) - CN

SUN GANG (SUN, GANG) - CN

MIN JINHUA (MIN, JINHUA) - CN

ZHANG JUN (ZHANG, JUN) - CN

Inventeur

FANG LI (FANG, LI) - CN

SUN GANG (SUN, GANG) - CN

MIN JINHUA (MIN, JINHUA) - CN

ZHANG JUN (ZHANG, JUN) - CN

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